TN-G1100ZC高真空CVD管式炉

TN-G1100ZC高真空CVD管式炉简介：
主要用于电子陶瓷产品的预烧、烧结、镀膜、高温热解低温沉积（CVD）工艺等。
TN-G1100ZC高真空CVD管式炉特点：
该仪器是一个三温区真空管式炉主要用于大专院校、科研院所、工矿企业等试验和小批量生产之用。主要用于电子陶瓷产品的预烧、烧结、镀膜、高温热解低温沉积（CVD）工艺等。
仪器的控制系统采用原装进口产品，具有操作容易，安全可靠，控温精度高（*PID控制），保温效果好，温度范围大，炉膛温度均匀性高，温区多，可通气泵，抽真空等特点。
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